等離子體反應器的流量和壓力控制
| 等離子體除了作為一種自然現象，這種迷人的物理效應也發(fā)生在我們日常生活中使用的產品的制造過程。例如：手機、電腦、太陽能電池板和玻璃窗。
等離子體工藝中會使用等離子體反應器。氣體流量、蒸汽流量和壓力在等離子體反應器中起著重要作用。進入反應器的氣體流量和壓力控制由流量控制器和壓力控制器調節(jié)。流量控制器控制進入反應室的氣體流量，在反應室氣體被激發(fā)成等離子體，壓力控制器將過量氣體從反應室中排出，同時保持壓力。 |
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什么是等離子體？物理學中的“等離子體”是：“由正離子和自由電子組成的高度電離氣體?！币驗殡x子和電子的離子化和復合是連續(xù)發(fā)生的，等離子體發(fā)出美麗的光。因此，等離子體也被稱為物質的第四狀態(tài)，區(qū)別于固體、液體和氣體。 |
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自然產生的等離子體有閃電、北極光以及太陽和其他恒星的核活動等。人類從等離子體的自然發(fā)生中吸取經驗，并將其轉化為今天用于許多工藝過程的技術。
人造等離子體有等離子燈、核聚變反應堆和普通熒光燈等。還有等離子體反應器。 |
等離子體反應器的流量和壓力控制等離子體可將涂層涂覆到硅片、玻璃和金屬片的表面上。例如，芯片上的薄涂層可通過等離子體蝕刻工藝來構造。等離子體還可清潔和激活表面，在將兩塊材料粘合之前增強兩者之間的粘合過程。 引入反應器的氣體通過施加電力形成電離等離子體。對不同氣體流量、反應器壓力、溫度和電力進行平衡調整，將氣體轉化成一道美麗的光，將其魔力傳播到反應器內的材料上，即電離等離子體。氣體流量和反應器壓力的平衡設置通過質量流量控制器和電子壓力控制器獲得。 氣相/層沉積 & 蝕刻技術CVD, PVD, ALD, RIE, IBE, SAB是半導體、太陽能和其他涉及表面處理的行業(yè)制造工藝的縮寫。此類過程通常在等離子體反應器中進行，采用氣體混合物或蒸汽的等離子體。 |
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沉積技術
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此類蒸汽和層沉積工藝旨在應用厚度在納米到微米量級薄的涂層。大多數玻璃窗都有一層通過物理氣相沉積（PVD）涂覆薄薄的防反射涂層。
您現在可能正在看的電腦顯示器包含化學氣相沉積（CVD）制成的數百萬像素。 |
蝕刻技術
此類蝕刻技術用于去除半導體芯片或傳感器芯片表面中的選型區(qū)域。 |
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表面活化鍵合-SAB表面活化鍵合技術應用于傳感器和電子電路板的制造。 |
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等離子體反應器流量系統(tǒng)與系統(tǒng)制造商合作，Bronkhorst通過提供完整的流量和壓力控制系統(tǒng)為終端用戶服務。 流量控制器將氣體添加到反應室中，在反應室中氣體被激發(fā)成等離子體，與所加材料發(fā)生預期反應。壓力調節(jié)器起著重要作用。其將過量氣體從反應器中排出，同時保持工藝壓力。 在蒸發(fā)系統(tǒng)裝置中，受控蒸發(fā)器模塊（CEM）與液體流量控制器以及氣體流量控制器相結合，向等離子體反應器提供蒸汽。其與CEM下方的氣體流量控制器（可添加額外氣體）一起為反應室創(chuàng)造優(yōu)化的工藝條件，氣體在反應室中被激發(fā)形成等離子體。 下方氣體流量控制器用于氣體吹掃，通常為氮氣，用于在工藝之后從反應室中沖洗出任何不需要的氣體。電子壓力調節(jié)器將過量氣體混合物排出反應室，同時保持過程中的壓力。 |
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